VANTA - Veil XIV - NO RESERVE





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VANTA Veil XIV - NO RESERVE,是一幅原作混合媒介画布上的作品,属于抽象表现主义,尺寸高140 cm、宽100 cm,创作于2020年及以后,题材为肖像;手签名,状况极好,来自奥地利,由艺术家直接出售。
卖家的描述
Veil
Veil 是一系列探讨“人物开始溶解于光线的临界点”的绘画——肖像中,面孔几乎模糊到难以辨识,五官变得松散成安静的色调场域,而头发、肩膀和衣物仍保持足够的形状,暗示着一个存在。每幅作品都处于肖像与氛围之间的某种位置,仿佛观者透过玻璃上的呼吸看见坐者,或处在记忆变得清晰之前的瞬间之中。
该系列借鉴了格哈德·里希特模糊的照片绘画——尤其是 Betty 的柔软性,以及他的肖像作品——,也受路克·吐伊曼斯的安静、鬼影般的人物、玛琳·杜马斯的氛围化肖像、米歇尔·博勒曼斯的雾化亲密感,以及维廉·哈默舒依 Interior 中的扩散、几乎摄影般柔和的光感启发。还有比尔·维欧拉慢速而明亮的视频肖像在背景中若隐若现——共同的兴趣是在可见边缘捕捉到的人类存在。
Veil 延续了我早期的梯度与光线系列的关注点——First Light、Aura、Lumen、Flare——在这些系列中,颜色与辐射是主题;在这里,相同的柔和光感被转向人物,面孔成为另一种光源。
每幅画的起始都来自一张照片。图像在数字化处理后,其色域逐步收缩,直到只剩下少量色调——原始图像的简化、几乎向量化的版本,人物被简化为一小段扁平色域的词汇。于是这个简化的图像成为工作蓝本。它被投射到画布上,色域被仔细勾画出来,随后以丙烯颜料在棉布上逐区域上色——极其稀薄的、延缓干燥过程的稀释液被添加,分层的涂抹逐步建立色调。一旦扁平的色域就位,表面就进入再加工阶段:刷涂、软化、通过许多耐心、几乎透明的层次进行模糊处理,必要时再由喷笔加入额外的涂层,使过渡真正变得无重量感。
模糊并非作为效果而是被“绘出”来,每一个柔和边缘都是缓慢再处理的结果,拉出轮廓刚好进入又退出焦点。最后以保护性清漆完成每幅作品,深化表面,使人物在其中再退回一步。
Veil 是一部关于“在场的柔软性”的系列——人脸如何在清晰与模糊之间滑动,以及看见某人和仅仅感知他们在那里之间的安静空间。
运输:
作品在送达时不带框(专业包装,卷在管中)。可以由专业人士或你自己很容易地重新拉直框,这也比在运输时如果画作带框会增加的成本更便宜。
所示的尺寸是指画作在框架上被拉伸并装裱后的尺寸(实际画布尺寸更大,以便裱在厚度为 2-4 cm 的框架上)。
免责声明:
清单中包含的过程照片展示了研究稿和进行中的作品,以及近距离拍摄的画布结构照片。
卖家故事
Veil
Veil 是一系列探讨“人物开始溶解于光线的临界点”的绘画——肖像中,面孔几乎模糊到难以辨识,五官变得松散成安静的色调场域,而头发、肩膀和衣物仍保持足够的形状,暗示着一个存在。每幅作品都处于肖像与氛围之间的某种位置,仿佛观者透过玻璃上的呼吸看见坐者,或处在记忆变得清晰之前的瞬间之中。
该系列借鉴了格哈德·里希特模糊的照片绘画——尤其是 Betty 的柔软性,以及他的肖像作品——,也受路克·吐伊曼斯的安静、鬼影般的人物、玛琳·杜马斯的氛围化肖像、米歇尔·博勒曼斯的雾化亲密感,以及维廉·哈默舒依 Interior 中的扩散、几乎摄影般柔和的光感启发。还有比尔·维欧拉慢速而明亮的视频肖像在背景中若隐若现——共同的兴趣是在可见边缘捕捉到的人类存在。
Veil 延续了我早期的梯度与光线系列的关注点——First Light、Aura、Lumen、Flare——在这些系列中,颜色与辐射是主题;在这里,相同的柔和光感被转向人物,面孔成为另一种光源。
每幅画的起始都来自一张照片。图像在数字化处理后,其色域逐步收缩,直到只剩下少量色调——原始图像的简化、几乎向量化的版本,人物被简化为一小段扁平色域的词汇。于是这个简化的图像成为工作蓝本。它被投射到画布上,色域被仔细勾画出来,随后以丙烯颜料在棉布上逐区域上色——极其稀薄的、延缓干燥过程的稀释液被添加,分层的涂抹逐步建立色调。一旦扁平的色域就位,表面就进入再加工阶段:刷涂、软化、通过许多耐心、几乎透明的层次进行模糊处理,必要时再由喷笔加入额外的涂层,使过渡真正变得无重量感。
模糊并非作为效果而是被“绘出”来,每一个柔和边缘都是缓慢再处理的结果,拉出轮廓刚好进入又退出焦点。最后以保护性清漆完成每幅作品,深化表面,使人物在其中再退回一步。
Veil 是一部关于“在场的柔软性”的系列——人脸如何在清晰与模糊之间滑动,以及看见某人和仅仅感知他们在那里之间的安静空间。
运输:
作品在送达时不带框(专业包装,卷在管中)。可以由专业人士或你自己很容易地重新拉直框,这也比在运输时如果画作带框会增加的成本更便宜。
所示的尺寸是指画作在框架上被拉伸并装裱后的尺寸(实际画布尺寸更大,以便裱在厚度为 2-4 cm 的框架上)。
免责声明:
清单中包含的过程照片展示了研究稿和进行中的作品,以及近距离拍摄的画布结构照片。

